在半導(dǎo)體行業(yè)中，干式真空泵被廣泛應(yīng)用于以下幾個(gè)方面：

清洗和脫氣：在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，清洗和脫氣是非常重要的步驟。干式真空泵可以用于將氣體從半導(dǎo)體器件或組件中抽取出來(lái)，以確保器件內(nèi)部的潔凈度和穩(wěn)定性。

沉積層制備：半導(dǎo)體器件的沉積層通常需要在真空條件下進(jìn)行制備。干式真空泵可以提供所需的高真空度，確保沉積層的質(zhì)量和均勻性。

離子注入：離子注入是半導(dǎo)體器件制造中常用的工藝之一。在離子注入過(guò)程中，需要在真空環(huán)境下將離子注入到半導(dǎo)體材料中。干式真空泵可以提供所需的真空度和穩(wěn)定的工作環(huán)境，確保注入過(guò)程的精確性和可靠性。

薄膜沉積：半導(dǎo)體器件中的薄膜沉積通常需要在真空條件下進(jìn)行。干式真空泵可以提供所需的高真空度，確保薄膜的質(zhì)量和均勻性。

真空封裝：在半導(dǎo)體器件的封裝過(guò)程中，需要在真空條件下進(jìn)行，以確保封裝材料的質(zhì)量和密封性。干式真空泵可以提供所需的真空度，確保封裝過(guò)程的可靠性。

需要注意的是，半導(dǎo)體制造過(guò)程中具體使用干式真空泵的環(huán)節(jié)可能會(huì)因不同的工藝和設(shè)備而有所差異。